描述
实验室新风系统
产生场景
化学试剂挥发、实验废气、消毒剂残留、设备排放
吸附目标物
重金属蒸气、放射性碘（I-131）、挥发性有机物（VOCs）、酸性/碱性气体、异味与消毒副产物、微生物代谢产物
应用场景
化学实验室、生物安全实验室（BSL-2/3）、分析测试室、动物房与细胞房
治理工艺
活性炭吸附技术：颗粒活性炭（GAC）滤罐、蜂窝活性炭模块、浸渍改性活性炭
组合工艺：活性炭-HEPA联用、UV光解-活性炭联用、催化氧化-活性炭再生
Clarkson 产品系列
CKC-LAB-TCLR, CKC-LAB-CHTC
案例
某高校化学实验室VOCs治理
问题：有机合成实验导致室内甲苯浓度超标（2.5mg/m³，超国标5倍）。
解决方案：安装柱状活性炭过滤器（碘值≥900mg/g），风量2000m³/h。
效果：甲苯浓度降至0.3mg/m³（GBZ 2.1-2019限值0.6mg/m³），年耗炭量减少40%。
超级洁净室空气净化
半导体制造、生物制药等超级洁净室对空气洁净度要求严苛，AMC（气态分子污染物）浓度需控制在ppb级。研究表明，硅氧烷等小分子污染物会降低芯片良率高达15%，而活性炭的微孔定向吸附能力可精准截留分子量200-500 Da的污染物，保障生产环境稳定性。
产生场景
工艺排放污染：半导体制造、生物制药、精密电子、人员与设备引入污染、外部空气渗透
吸附目标物
酸性气体：HF、HCl、H₂SO₄蒸气
碱性气体：胺类
VOCs：异丙醇、苯、甲醛
臭氧与异味
微生物风险
应用场景
半导体晶圆厂、生物制药无菌车间、航天精密装配室
治理工艺
活性炭吸附技术：改性活性炭、固定床吸附
组合净化系统：HEPA/ULPA+活性炭联用、离子交换-活性炭联用
Clarkson 产品系列
CKC-SC-TCLR, CKC-SC-CHTC
案例
半导体晶圆厂光刻区AMC控制
背景：某12英寸晶圆厂光刻胶溶剂（PGMEA）导致透镜雾化，良品率下降5%。
解决方案：在循环风系统中加装改性活性炭化学滤网（厚度30cm）。
效果：PGMEA浓度从0.5 ppm降至0.02 ppm，透镜清洗周期延长3倍。
